ASML es la empresa más importante de la que nunca ha oído hablar. Esta empresa holandesa de más de 300.000 millones de dólares fabrica las máquinas que hacen los semiconductores. Cada una de ellas cuesta 150 millones de dólares y el acceso a ellas es un enorme punto de inflamación geopolítica. ¿Qué vende exactamente ASML? Su producto clave es una máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), que utiliza tecnología de luz avanzada para "imprimir" circuitos diminutos en obleas de silicio. Sólo se fabrican unos 50 al año...

El grupo holandés ASML vale en Bolsa 265.000 millones gracias a su posición de dominio en la venta de máquinas para la fabricación de semiconductores

El fabricante holandés de máquinas de litografía para la manufactura de microchips ASML sufrió una "apropiación indebida no autorizada" de datos relacionados con tecnología patentada por la empresa por parte de un entonces empleado en China, ha informado la multinacional, señalando que el trabajador implicado ya no forma parte de su plantilla. "Hemos experimentado una apropiación indebida no autorizada de datos relacionados con tecnología patentada por parte un entonces empleado en China, ha informado la multinacional

Estamos asistiendo a uno de los movimientos más importantes en la industria de los semiconductores de los últimos años. Sabíamos que este día llegaría y, finalmente, está aquí. ASML ha enviado su primer equipo de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) de segunda generación a Intel. Estamos hablando del Twinscan EXE:5000, una máquina alta apertura (High-NA) que supera a cualquier otra solución disponible en el mercado.

Estados Unidos está haciendo todo lo posible para que China no pueda avanzar al mismo ritmo que otros países limitando su acceso a determinada tecnología.

Un cabello humano tiene entre 50.000 y 100.000 nanómetros de ancho. Un virus tiene entre 20 y 300 nanómetros de ancho. Y una uña crece 1 nanómetro por segundo. Cuando una máquina ASML coloca una oblea para exposición DUV o EUV, una maquinaria precisa debe alcanzar la posición exacta y correcta en unos pocos nanómetros. Estos márgenes de error me dejaron atónito e inspiraron este vídeo.

A principios de noviembre de 2023 Canon anunció que tenía listo su primer equipo de litografía de nanoimpresión (se conoce como NIL por su denominación en inglés NanoImprint Lithography) capacitado para fabricar circuitos integrados de hasta 2 nm. Esta compañía japonesa comenzó a trabajar en la litografía NIL en 2004. Trece años después, en 2017, entregó el equipo FPA-1200NZ2C, su primera máquina NIL funcional, a Toshiba para que fuese instalada en su planta de producción de chips de memoria de Yokkaichi, en Japón.

La preocupación en torno a las leyes laborales, la regulación de emisiones y los problemas de la red eléctrica son algunos de los problemas planteados por la tecnológica ASML

ASML es un líder tan indiscutible en el ecosistema de chips actual que cuesta creer que el dominio del mercado de la empresa se remonte realmente a 2017, cuando su máquina UVE, tras 17 años de desarrollo, puso patas arriba el proceso convencional de fabricación de chips. Canon y Nikon también estaban trabajando en UVE, pero el gobierno estadounidense les denegó la licencia para participar en el consorcio de empresas y laboratorios nacionales que lo estaban investigando. Ambas abandonaron el proyecto.

TSMC es uno de los mayores fabricantes de chips a nivel mundial, superando incluso a Intel y Samsung por cifras de ingresos. Sin embargo, su ubicación, Taiwán, es un punto de acceso potencial entre los EEUU y China, especialmente porque China (la República Popular China) considera a Taiwán (la República de China) como parte integral de su territorio. Dado que la superpotencia regional no descarta una invasión militar de la isla, EEUU quiere asegurarse de que las capacidades de fabricación de chips de TSMC no caigan en manos de China.

En 2026 Rusia debería tener listo un prototipo de equipo de litografía UVE capaz de fabricar chips de 130 nm. Y en 2028 otro similar capacitado para producir circuitos integrados de 7 nm. Si finalmente Rusia consigue tener en 2028 un equipo de litografía UVE capaz de fabricar circuitos integrados de 7 nm se colocará inquietantemente cerca de EEUU y sus aliados en este terreno.